濺鍍靶材Sputtering Targets
宜美供應高品質的濺鍍靶材, 包含氧化物材料、化合物材料、合金材料， 純度也依不同需求從低純到高純，尺寸大小可依客戶需求生產。
高純度化合物靶材:
Al2O3、AlN、Cu2Te 、CuAlO2、GZO、IGZO 、In2Se3、ITO、In2O3/WO3、IZO、LaMnO3、LiF、LiMn2O4、MgF2、Nb2O5、NiO 、NiTi、Si3N4 、SiO2、SiO、Ta2O5 、TiO2、V2O5、W/Ti、ZnO、ZrO2...
高純度金屬靶材:
Ag、Al 、Bi、Co、Au、Cu、Cr、Ge、Hf、In 、Mo 、Nb、Ni、Pd、Si 、Sn、Te、Ti、V、W、Zn、Zr ...
各種高純度金屬及高純度化合物靶材皆可依客戶需求提供客製。